芯片市场不景气!台积电取消N3工艺+停用部分EUV光刻机
- +1 你赞过了
【天极网DIY硬件频道】三星在6月份宣布量产3nm工艺,虽然实现超越台积电的夙愿,但三星方面并没有公布哪些厂商实用3nm工艺。虽然台积电笔三星满,但传闻包括苹果、Intel等公司对3nm非常感兴趣。
但前不久有消息称,英特尔取消3nm工艺的订单,14代酷睿的GPU模块使用5nm工艺。随着时间的推进,另一个使用台积电3nm工艺客户苹果也动摇了,来自产业链的消息人士@手机晶片达人 的爆料,台积电N3工艺(第一代3nm)已经被内部放弃,因为包括苹果都不使用。
根据台积电的说法,与N5工艺相比,第一代N3工艺可降低约25-30%的功耗,性能提升10-15%,晶体管密度提升约70%,工艺性能、密度都非常不错。但N3工艺存在一个天然缺陷,那就是只适合制造特定的产品,较高的成本也需要“土豪”才会考虑使用。
在放弃第一代N3工艺之后,苹果、英特尔、AMD等公司将使用台积电第二代的N3E工艺。根据官方的说法,N3E在N3的基础上提升性能、降低功耗,并扩大应用范围。于台积电N5相比,同等性能、密度下功耗降低34%,同等功耗和密度下性能提升18%,或将晶体管密度提升60%。
在一天之后,@手机晶片达人 再次爆料,称由于半导体形势突变,产能利用率下降,台积电正在考虑从年底开始,关闭部分EUV光刻机,以节省能耗。综合早前的各种信息,,EUV光刻机使用高能激光器在多次折射后损耗极大,早期效率只有0.02%,就算是量产业只有2%。一台EUV光刻机生产一天需要大约3万度电,在产能降低的情况下,可以节省大量电费。
编辑点评:随着手机、PC市场在2022年快速遇冷,半导体生产和供应已经逐渐回归正常。虽然部分车用芯片以然存在交货较慢外,其他产品已经走到饱和的状态。甚至近期传出国内手机厂商库存高企等问题,存储产品(DRAM+NAND flash)价格也持续下跌。
在需求降低情况环境中,台积电减少EUV光刻机可以大幅降低电费支出。等到N3E开始量产,台积电应该会让所有EUV光刻机跑起来。
最新资讯
热门视频
新品评测